3.5至6m。传统铜箔主要是由辊压或电解工艺生产得到,复合铜箔是在厚度3.5至6m的塑料薄膜表面采用磁控溅射或真空蒸镀的方式。化学镀铜是电路板制造中的一种工艺,通常也叫沉铜或孔化(PTH)是一种自身催化性氧化还原反应。
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